最終更新日:2019/4/23

  • 正社員

アリオス(株)【オーエスジーグループ】

  • 半導体・電子・電気機器
  • 精密機器
  • 機械
  • 機械設計
  • 受託開発
本社
東京都
資本金
1,500万円
売上高
5億7,700万円(2018年11月実績)
従業員
35名(2019年4月)
募集人数
1~5名
  • 業種 半導体・電子・電気機器、精密機器、機械、機械設計、受託開発
  • 本社 東京都
  • 資本金 1,500万円
  • 売上高 5億7,700万円(2018年11月実績)
  • 従業員 35名(2019年4月)
  • 募集人数 1~5名

会社説明会 予約受付中!! ★5/13(月)、14(火)、15(水) ★全日程内容共通

宇宙の99%は「第4の状態」プラズマである!アリオスはプラズマ技術で最先端の研究開発に貢献します!! (2019/04/23更新)

★会社説明会 予約受付中!!★
★開催日:5/13(月)、14(火)、15(水)★全日程 内容共通

 →「説明会/セミナー予約画面」よりお申し込みの上、ぜひご参加ください。

※当日「履歴書・成績証明書・卒業見込証明書」をご提出いただいた方は、
5日以内に一次選考(書類選考)の結果をご連絡致します。

会場:本社2F会議室(東京都昭島市武蔵野3-2-20)
  
なお、予約画面以外にご希望の日程がございましたら、
お電話にて(042-546-4811)遠慮無くご相談ください。
できる限りお応え致します。
 

会社説明会当日は、会社概要、仕事内容や当社の特徴をできるだけ判りやすくご説明する予定です。また、先輩社員とのフリートーク、社内見学で会社の雰囲気も感じていただける良い機会です。
ミニ真空実験披露もありますのでどうぞお楽しみに。

皆さまのお問い合わせ、会社説明会ご参加をお待ちしております。
042-546-4811 
採用担当 総務部:有屋田(ありやだ)、上醉尾(かみえのお)
         鈴木(すずき)

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会社紹介記事

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IWPPI2018展示会場、アリオスブースにて。新製品や新技術をご紹介するため国際会議や学会講演会を含め各種展示会に出展しています。
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超高真空蒸着装置の設置作業を終えて。お客様のクリーンルームにて。

超高真空技術・プラズマ技術で先端技術分野の研究開発に貢献しています。

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プラズマの光は新素材やデバイスの開発から殺菌・洗浄・照明など身近なところまで、さまざまな分野で役立っています。

アリオスは、真空管の開発を出発点にして、大学・企業の研究開発の一翼を担う真空技術・プラズマ技術を蓄積してきました。そして今、産業競争力の強化や科学技術の発展に大きく貢献しています。
真空技術といっても、直接一般の人が目にすることはほとんどありませんが、生活のあらゆる場面のベースになっている技術です。当社が取り組んでいる研究開発機器は次世代を担う技術開発に使われることが多いのですが、残念ながら当社の名前が表に出ることはありません。それは特許や企業秘密に係わる案件が多いからです。
宇宙開発関連から食品や半導体関連まで幅広い分野で当社の試作機や開発機が活躍しています。例えば、日本標準時(時報)の基となる原子時計の一部は当社が製造し情報通信研究機構で動いています。
そして今、デジタル家電やハイブリッド自動車・電気自動車等で利用が始まっているパワーデバイスのなかでも、次世代のパワーデバイスとして究極の高性能が期待されるダイヤモンド半導体の製造技術を、大学や国の機関、大手企業と一緒に開発しています。
つまり、未来の私たちの生活に役立つことや役立つものに繋がる研究のお手伝いをしている会社です。

会社データ

プロフィール

 アリオスは、真空技術・プラズマ技術で大学や研究機関・企業の研究開発を支援する研究開発用装置のメーカーです。1972年創業以来、一貫して最先端の研究開発に関わってきました。例えば現在は、マイクロ波プラズマ技術(特許技術)を応用し、究極の半導体として次世代パワーデバイスと期待されるダイヤモンド半導体の製造技術を、大学や研究機関、大手企業と一緒に開発しています。
 アリオスの技術は、ガラス加工から電極の作成、真空封止といった一連の真空管製造技術を原点としており、これは現在の真空ゲージ球の製造技術に引き継がれています。真空管はそのほとんどが半導体に置き換わりましたが、真空管の電子を制御する技術は、RHEEDやEB蒸着源、フィラメント式中和器などアリオスの代表的な製品に活かされています。
 また、航空機や気球により大気中のチリを観測するためのエアロゾルサンプラーを開発するなど、創業当初から真空だけに止まらず気象観測関連機器も開発製造しています。
 その後、半導体のめざましい発展と共に真空技術の重要性が高まり、当時難しかった超高真空技術に注力してきました。特に化合物半導体用のMBE装置は研究用から生産用大型装置まで手がけ、確かな実績を残してきたと自負しています。
 そして、半導体成膜に必須のプラズマ技術は自ずとアリオスのキーテクノロジーとなりました。デジタル家電やハイブリッド自動車・電気自動車等で必要とされる半導体デバイス開発をはじめ、新素材開発、表面改質、加飾、分析、医療…とあらゆる分野にプラズマは利用されており、アリオスはその特性や用途に応じたさまざまなプラズマ生成技術の開発を続けています。(特許20件、出願中含む)
 アリオスの技術・製品は今後ますます活躍の場を拡げていきます。

事業内容
  • 受託開発

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アリオスはお客様の多様なニーズにお応えするために様々な実験装置を設計製造しています。また、独自技術の研究開発にも力を入れており日々チャレンジし続けています。

超高真空機器・装置、プラズマ応用機器・装置、各種実験・計測用機器の設計・製造・販売
生産技術、生産用機器・装置、制御機器、システムの開発受託
本社郵便番号 196-0021
本社所在地 東京都昭島市武蔵野3-2-20
本社電話番号 042-546-4811 
設立 1972年8月12日
資本金 1,500万円
従業員 35名(2019年4月)
売上高 5億7,700万円(2018年11月実績)
事業所 本社(東京都昭島市)
東海営業所(愛知県豊川市:オーエスジーアカデミー内)
株主構成 オーエスジー(株)(東証一部) 100%
沿革
  • 1972年
    • 研究用機器の設計、製造、販売を主体として大誠産業(株)を東京都調布市に設立
  • 1980年
    • 水素メーザ原子周波数標準器量子系開発
  • 1985年
    • MBE装置関連事業開始
  • 1988年
    • 昭島市中神町に工場新設
  • 1991年
    • 資本金1,500万円に増資
  • 1992年
    • 副標準電離真空計管球VS-1A開発
  • 1993年
    • 昭島市武蔵野に本社、工場を移転統合
  • 1995年
    • CVD装置関連事業開始
  • 2001年
    • アリオス(株)に改名
      「ARIOS」商標登録
      東京都の中小企業経営革新計画承認
  • 2002年
    • 昭島市武蔵野(現住所)に移転し、フロアー拡大
  • 2003年
    • 電離真空計に関する特許取得
  • 2004年
    • 環境マネジメントシステムISO14001認証取得
  • 2006年
    • プラズマ源に関する特許取得
      JST「先端計測分析技術・機器開発事業」に参画
  • 2007年
    • JST「産学共同シーズイノベーション化事業」に採択
  • 2008年
    • 文部科学省「安全・安心科学技術プロジェクト」に採択
      NEDO「エコイノベーション推進事業」に採択
  • 2009年
    • 大気圧プラズマ源に関する特許取得
  • 2010年
    • 窒化炭素の製造方法に関する特許取得
      経済産業省「特定研究開発等計画」認定
      「戦略的基盤技術高度化支援事業」に採択
      JST「A-STEP(FS)」に採択
  • 2011年
    • ダイヤモンド合成用CVD装置に関する特許取得
  • 2012年
    • 工場を増築し、社内設備の大幅改善を行う
  • 2013年
    • 中小企業庁「ものづくり中小企業・小規模事業者試作開発等支援補助金」に採択
      JST「A-STEP ハイリスク挑戦タイプ」に採択
      マイクロ波化学反応装置に関する特許取得
      ナノ粒子製造装置に関する特許取得
  • 2014年
    • 液中プラズマ処理装置に関する特許取得
      窒化シリコン基板の作成方法に関する特許取得
  • 2015年
    • 愛知県岡崎市に東海営業所開設
  • 2016年
    • JST「戦略的イノベーション創出推進プログラム」に参画
  • 2017年
    • オーエスジー(株)(東証一部上場)の連結子会社となる
      東海営業所を愛知県豊川市に移転
平均勤続勤務年数 16年(2017年度実績)
月平均所定外労働時間(前年度実績) 24時間(2017年度実績)
平均有給休暇取得日数(前年度実績) 年次有給休暇 消化率47.5%(2017年度実績)
前年度の育児休業取得対象者数 該当者無し
前年度の育児休業取得者数 該当者無し
役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合 14%(7名中女性1名 2017年度実績)

採用データ

問い合わせ先

問い合わせ先 〒196-0021
東京都昭島市武蔵野 3-2-20
アリオス株式会社 採用担当
TEL:042-546-4811 
URL http://www.arios.co.jp/recruit/index.html
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