最終更新日:2022/3/15

(株)日立ハイテクサイエンス

業種

  • 精密機器

基本情報

本社
東京都
資本金
1億円(日立ハイテク全額出資)
売上高
239億円(連結) (2021年3月)
従業員
497名(単体) 516名(連結)(2021年4月1日時点)

計測・分析装置の最先端!見る・測る・解析する・加工する領域で世界を支える技術力

会社紹介記事

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~スマホ開発から水道水の安全まで~私たちの暮らしを支える技術

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当社の製品は、表面分析、元素・物性分析、分光・分離分析などの幅広い領域で、科学技術や産業の発展に貢献しています。
例えば、今や生活には欠かせないスマートフォン。その内部を構成する最先端の微小、高性能な電子部品の開発、生産プロセスには当社が培ってきた原子レベルの技術が応用されています。また、リチウムイオン電池や太陽電池など新エネルギーの研究開発から、水道水や食品、玩具、家電製品などの身近な商品の安全管理まで、人々の暮らしを支えるありとあらゆる分野にて当社の製品が役立っています。日立ハイテクサイエンスは『見る』『測る』『分析する』『加工する』領域から、世界中の人々の安全・安心・健康を支えています。

会社データ

事業内容
電子デバイス市場、環境分析市場、食品・高分子材料市場、研究市場 等で使用される、計測・分析・観測装置の開発、設計、製造、販売。

■主な製品
・走査型プローブ顕微鏡・集束イオンビーム装置・電子顕微鏡
・蛍光X線分析装置/膜厚計・ICP分析装置・熱分析装置
・液体クロマトグラフ
・分光分析装置/原子吸光分析装置/発光分光分析装置/質量分析装置
・X線回折装置/核磁気共鳴装置/電子スピン共鳴装置/電気化学分析装置
本社郵便番号 105-6411
本社所在地 東京都港区虎ノ門一丁目17番1号虎ノ門ヒルズビジネスタワー
本社電話番号 03-3504-3966(代)
設立 2000年3月1日
資本金 1億円(日立ハイテク全額出資)
従業員 497名(単体) 516名(連結)(2021年4月1日時点)
売上高 239億円(連結) (2021年3月)
事業所 ■本社
東京都港区虎ノ門一丁目17番1号 虎ノ門ヒルズ ビジネスタワー
■名古屋営業所
愛知県名古屋市中区錦二丁目13番19号
■関西支店(大阪営業課)(九州営業課)
大阪府大阪市淀川区宮原三丁目3番31号 上村ニッセイビル
■サイエンスソリューションラボ東京
東京都中央区新富二丁目15番5号 RBM築地ビル
■富士小山事業所
静岡県駿東郡小山町竹の下36-1
■那珂事業所
茨城県ひたちなか市市毛1040番地
関連会社 《海外》
■日立儀器有限公司 Hitachi Instruments(Shanghai)Co,Ltd.

■Hitachi High-Tech Science America.Inc.
平均勤続年数 18.4年 2020年度末実績(正社員のみ)
沿革
  • ■1947
    • 日立グループの商事会社として(株)日之出商会(後に日製産業(株)、現(株)日立ハイテクノロジーズ)設立
  • ■1970
    • 第二精工舎(現セイコーインスツル、以下SII)が、ウォッチ以外の新規事業分野開発のため、社内にRDセンターを設置し、分析・計測機器事業分野(科学機器事業)の研究開発を開始
  • ■1972
    • SIIが、分析・計測機器の製造販売を目的に、科学機器部を設置
  • ■1973
    • SIIが、科学機器事業の製造拠点として静岡県駿東郡に小山事業所を設置
  • ■1995
    • SIIが、科学機器の製品の保守サービス・消耗品販売を目的に、(株)エポリードサービス設立
  • ■1998
    • 小山事業所ISO14001認証取得
  • ■2000
    • SIIが当社の前身であるエスアイアイ・マイクロスコープ(株)を設立
  • ■2001
    • 日製産業が、(株)日立製作所の計測機器グループ・半導体製造装置グループとの事業統合に伴い、商号を(株)日立ハイテクノロジーズに変更
  • ■2003
    • エスアイアイ・ナノテクノロジーがSIIの科学機器事業を会社分割により 承継するとともに、(株)エポリードサービスの株式を取得
      エスアイアイ・マイクロスコープが商号をエスアイアイ・ナノテクノロジー(株)に変更
  • ■2003
    • セイコーインスツル(株)の科学機器事業を会社分割により継承するとともに、科学機器の保守消耗品の販売を行う(株)エポリードサービスの株式を取得
  • ■2004
    • 中国 上海に精工盈司電子科技(上海)有限公司(現日立儀器(上海)有限公司)を設立
  • ■2005
    • 米国 カリフォルニアにSII NanoTechnology USA Inc.(現Hitachi High-Tech Science America, Inc.)を設立
  • ■2005
    • SII NanoTechnology USA Inc.が米国Radiant Detector Technologies. LLCおよびPhoton Imaging Inc.よりX線検出器事業を譲受
  • ■2013
    • (株)日立ハイテクノロジーズおよび(株)日立ハイテク コントロールシステムズより、分析装置事業の設計および国内販売機能を承継
  • ■2013
    • セイコーインスツル(SII)が当社の全株式を(株)日立ハイテクノロジーズへ譲渡したことで同社の子会社となり、商号を(株)日立ハイテクサイエンスに変更、本社を東京都港区に移転
      日立ハイテクノロジーズから、分析事業にかかわる設計開発・品質保証・営業部門を承継
  • ■2017
    • (株)エポリードサービスを(株)日立ハイテクサイエンスに吸収合併
  • ■2020
    • (株)日立ハイテクノロジーズが(株)日立ハイテクへ社名を変更
      小山事業所を富士小山事業所へ改称

働き方データ

  • 平均勤続勤務年数
    平均勤続勤務年数
    • 18.4年
    2020年度
  • 月平均所定外労働時間(前年度実績)
    月平均所定外労働時間(前年度実績)
    • 20.4時間
    2020年度
  • 平均有給休暇取得日数(前年度実績)
    平均有給休暇取得日数(前年度実績)
    • 17.7日
    2020年度
  • 前年度の育児休業取得対象者数(男女別)
    前年度の育児休業取得対象者数(男女別)(女性) 前年度の育児休業取得対象者数(男女別)(男性) 前年度の育児休業取得対象者数(男女別)(合計)
    対象者 1名 10名 11名
    2020年度
  • 前年度の育児休業取得者数(男女別)
    前年度の育児休業取得者数(男女別)(女性) 前年度の育児休業取得者数(男女別)(男性) 前年度の育児休業取得者数(男女別)(合計)
    取得者 1名 2名 3名
    2020年度
  • 役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合
    役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合
    • 0.0%
      (6名中0名)
    • 2020年度

社内制度

研修制度 制度あり
・新入社員研修(1ケ月程度)
・海外研修(若手・選抜)
・階層別研修
・各種スキル研修 他
自己啓発支援制度 制度あり
・語学教育補助
・TOEIC奨励金制度
・資格等取得奨励金制度
メンター制度 制度なし
キャリアコンサルティング制度 制度なし
社内検定制度 制度あり
・社内英語検定(TOEIC)の実施

採用実績

採用実績(学校)

<大学院>
大分大学、大阪大学、神奈川大学、九州大学、九州工業大学、京都府立大学、群馬大学、県立広島大学、神戸大学、静岡大学、千葉大学、筑波大学、東京大学、東京海洋大学、東京工業大学、東京電機大学、東京理科大学、東北大学、東北工業大学、徳島大学、長岡技術科学大学、名古屋工業大学、新潟大学、広島大学、福井大学、福島大学、北陸先端科学技術大学院大学、北海道大学、明治大学、立命館大学、横浜国立大学
<大学>
青山学院大学、秋田大学、秋田県立大学、茨城大学、金沢工業大学、群馬大学、慶應義塾大学、工学院大学、高知大学、佐賀大学、城西大学、上智大学、第一工業大学(東京上野)、中央大学、中京大学、電気通信大学、東海大学、東京工業大学、東京都市大学、鳥取大学、名古屋工業大学、兵庫県立大学、法政大学、明治学院大学、立教大学、立命館大学、立命館アジア太平洋大学、早稲田大学
<短大・高専・専門学校>
沼津工業高等専門学校

採用実績(人数)      2018年 2019年 2020年 2021年 2022年(予)
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大学院卒  9名   10名  7名   3名   4名
大学卒   8名   6名  3名   1名   1名
高専卒   1名   2名   -   2名   -
採用実績(学部・学科) 文・理全般(機械、電気・電子、情報、化学、工学など)
留学生採用 留学生の採用も積極的に行っております。
(当社で働く外国籍社員の主な出身国・地域:中国、韓国、台湾、ネパール、コスタリカ、メキシコ、マレーシア、タンザニア、ドイツなど)
  • 過去3年間の新卒採用者数(男女別)
    過去3年間の新卒採用者数(男性) 過去3年間の新卒採用者数(女性) 過去3年間の新卒採用者数(合計)
    2021年 7 0 7
    2020年 6 4 10
    2019年 10 8 18
  • 過去3年間の新卒採用者数
    採用者 過去3年間の新卒離職者数数
    2021年 7
    2020年 10
    2019年 18
  • 過去3年間の新卒離職者数
    離職者 過去3年間の新卒離職者数
    2021年 0
    2020年 1
    2019年 3

会社概要に記載されている内容はマイナビ2023に掲載されている内容を一部抜粋しているものであり、2024年卒向けの採用情報ではありません。企業研究や業界研究にお役立てください。

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