最終更新日:2023/2/7

キヤノンアネルバ(株)【キヤノングループ】

業種

  • 機械
  • 半導体・電子・電気機器
  • 精密機器

基本情報

本社
神奈川県
資本金
18億円(キヤノン(株)100%出資)
売上高
306億円(2021年12月期)
従業員
1,072名(2021年12月31日現在)
  • 会社概要

【Canonグループ】ハードディスクの磁気ヘッドや磁気ディスクの製造装置において「世界トップクラスシェア」を誇るリーディングカンパニー(BtoB)

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会社紹介記事

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本社は神奈川県川崎市にあります
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現代社会の生活に欠かせない製品を生み出す製造装置を開発・提供しています

究極の真空技術を追求する、世界有数の刺激的な研究開発

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キヤノンアネルバには、常にグローバルな接点を感じながら仕事ができる魅力があります。

★世界中の企業から必要とされる私たちの製品!
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 半導体部品やハードディスクドライブ部品など、IT社会を支える主要製品の製造に欠かせない上、その性能・品質を決定するとまで言われる真空薄膜形成装置や真空コンポーネント製品―。
 キヤノンアネルバは、これらの装置・製品の世界トップクラスのメーカーです。熾烈な開発競争を繰り広げる世界中の半導体デバイス・電子部品製造企業からの期待は大きく、私たちからの技術提案が、顧客の開発上の大きなブレークスルーを引き寄せることも珍しくありません。
 また、多岐にわたる顧客のニーズに合わせてカスタマイズ対応できることも、当社の大きな強みです。


★入社後、専門性を高めるキャリアがスタート!
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 世界最高度の製品開発を行う私たちですが、当初から真空技術に関する知識を求めているわけではありません。
 機械や電気、ソフトウェア、物理、化学といった領域を専攻している方であれば、開発に取り組む基礎的な技術の素養を活かしつつ、研修や実際の開発現場を通じ、専門性を高めていくことができます。
 また、当社はこの装置の分野において、企画開発から製造・販売・保守サービスまで一貫して取り組んでいるので、どのフィールドでも新しい経験ができます。

会社データ

事業内容
●真空成膜加工装置製造・販売
 ・半導体製造装置
 ・ストレージデバイス製造装置
 ・電子部品製造装置
 ・研究開発・小規模生産装置

●真空コンポーネント製品製造・販売
 ・真空ポンプ
 ・真空計測機器・分析機器
 ・真空部品

●保守サービス
 ・装置、真空コンポーネント製品保守・改造
 ・保守部品販売
 ・部品洗浄
本社郵便番号 215-8550
本社所在地 神奈川県川崎市麻生区栗木2-5-1
本社電話番号 044-980-5111
設立 1967年10月21日
資本金 18億円(キヤノン(株)100%出資)
従業員 1,072名(2021年12月31日現在)
売上高 306億円(2021年12月期)
戦略・ビジョン  いま半導体製造の現場では、ナノメートル単位(10億分の1メートル)で微細加工を行っています。それを可能にする技術の一つが、ウェハー上に薄膜をつくる「真空薄膜形成技術(スパッタリング)」であり、創業時からの当社のコア技術でもあります。

 キヤノングループの持つ精密機器製造技術のポリシーを真空技術に融合することにより、IoT社会に要求される新たな付加価値の創生に取り組んでいます。
事業・商品の特徴  就職活動の必需品であるスマホやPCをはじめ、大画面ディスプレイやLED、ゲーム機器など、身の周りには数多くの電子製品があります。
 そこに搭載されている半導体やハードディスクドライブ(HDD)などのデバイスは、私たちが開発した装置で作ったものです。

 当社は最終製品ではなく、得意の「超高真空技術」「真空薄膜形成技術」を駆使して、電子部品等を作る製造装置のメーカーとして、確固たる地位を築いています。
 中でも真空コンポーネント製品は、真空技術を扱う装置に必要不可欠な部品・機器として、部品メーカーや研究開発機関のお客様に採用されています。
事業所 <本社>
神奈川県川崎市
<事業所>
山梨県南都留郡鳴沢村
<国内拠点>
宮城県、長野県、石川県、大阪府、広島県、徳島県、熊本県
<海外拠点>
アメリカ、オランダ、ドイツ、UK、韓国、台湾、シンガポール、中国
株主構成 キヤノン(株)100%
沿革
  • 1967年10月
    • 日本電気(株)と(米)バリアン社の合弁会社として日電バリアン(株)創立
  • 1968年 1月
    • 府中工場竣工
  • 1975年 4月
    • 本社を府中工場へ移転
  • 1977年10月
    • (米)バリアン社との合弁契約解消
  • 1978年 3月
    • RIE装置での業績により大河内記念技術賞を受賞
  • 1979年11月
    • 社名を日電アネルバ(株)に変更
  • 1983年 4月
    • ・富士工場開設
      ・日電アネルバ・エンジニアリング(株)設立
  • 1988年 3月
    • ECRプラズマによる薄膜加工装置の開発により2度目の大河内記念技術賞を受賞
  • 1991年 2月
    • 静岡アネルバ(株)設立
  • 1993年 4月
    • 富士第三工場竣工
  • 1995年10月
    • ・日電アネルバ・エンジニアリング(株)と合併し、アネルバ(株)に社名を変更
      ・ISO-9001認証取得
  • 1997年 7月
    • 液晶注入装置がアドバンストディスプレイオブ・ザ・イヤー賞を受賞
  • 1998年10月
    • ISO14001 認証取得
  • 1999年 4月
    • アネルバテクノビジネス(株)を設立
  • 2002年 7月
    • ・静岡アネルバ(株)を吸収合併
      ・中国上海に現地法人「安内華弘塑(上海)半導体設備有限公司」設立
  • 2003年 1月
    • IAMS技術が第27回日本真空協会「真空技術賞」を受賞
  • 2003年 5月
    • マスク製造用スパッタリング技術で第3回日本真空工業会「会長賞」を受賞
  • 2003年10月
    • アネルバテクニクス(株)を設立
  • 2005年 9月
    • 日本電気グループよりキヤノングループへ
      株式(100%)移譲
  • 2005年10月
    • 社名をキヤノンアネルバ(株)に変更
  • 2007年 8月
    • 栗木新本社へ移転
  • 2008年 8月
    • 「超高密度HDDのための高性能トンネル磁気抵抗素子の開発」技術で「第6回産学官連携功労者表彰 内閣総理大臣賞」を受賞
  • 2010年 2月
    • キヤノンアネルバエンジニアリング(株)、キヤノンアネルバテクニクス(株)と合併
  • 2014年5月
    • NC7900 STT-MRAM量産向けスパッタリング装置が「半導体オブザイヤー2014」を受賞
  • 2017年10月
    • 創立50周年

働き方データ

  • 平均勤続勤務年数
    平均勤続勤務年数
    • 21.3年
    2021年度
  • 月平均所定外労働時間(前年度実績)
    月平均所定外労働時間(前年度実績)
    • 14.6時間
    2021年度
  • 平均有給休暇取得日数(前年度実績)
    平均有給休暇取得日数(前年度実績)
    • 13.6日
    2021年度
  • 役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合
    役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合
    • 1.2%
      (169名中2名)
    • 2021年度

社内制度

研修制度 制度あり
新入社員研修(6ヶ月)、二年次研修、各階層別研修、コンプライアンス研修等
自己啓発支援制度 制度あり
キヤノングループ各種人材育成・研修教育(Eラーニング)
メンター制度 制度あり
ブラザーシスター制度(配属から3年間)
キャリアコンサルティング制度 制度あり
キャリアプラン自己申告制度を通じた職場上司とのキャリア開発面談(年1回)
社内検定制度 制度あり
基幹技能に対するマイスター認定・表彰制度

採用実績

  • 過去3年間の新卒採用者数
    過去3年間の新卒採用者数(男性) 過去3年間の新卒採用者数(女性) 過去3年間の新卒採用者数(合計)
    2022年 12 3 15
    2021年 9 3 12
    2020年 17 4 21
  • 過去3年間の新卒採用者数
    採用者 過去3年間の新卒離職者数数
    2022年 15
    2021年 12
    2020年 21
  • 過去3年間の新卒離職者数
    離職者 過去3年間の新卒離職者数
    2022年 0
    2021年 0
    2020年 2
  • 会社概要

会社概要に記載されている内容はマイナビ2023に掲載されている内容を一部抜粋しているものであり、2024年卒向けの採用情報ではありません。企業研究や業界研究にお役立てください。

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