最終更新日:2025/4/1

(株)半導体エネルギー研究所

業種

  • 半導体・電子・電気機器
  • 化学
  • 薬品
  • その他電子・電気関連
  • 精密機器

基本情報

本社
神奈川県
資本金
43億4,800万円(資本準備金含む)
売上高
会社既定の為、非公開
従業員
712名(2023年4月1日現在)

研究開発と知的財産に特化!次世代技術を創出し世界の進歩に貢献します。

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企業のここがポイント

  • 戦略・ビジョン

    【研究開発×知的財産】に特化した日本では数少ないビジネスモデルの研究開発専門企業

  • 技術・研究

    酸化物半導体・二次電池・有機ELの研究開発にて、地球温暖化抑制に役立つ技術を発明しています

会社紹介記事

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「大学よりも、大学らしく。」クリーンルームをはじめとする充実した研究環境が、最先端の技術開発を実現します。
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知性(空)、情熱(太陽)、純粋・清廉(雲)がテーマカラーのSELロゴマークです。知的好奇心を絶やさず、次世代を想う清い心で社会に貢献する研究者が集います。

研究開発と知的財産に特化した、「知的創造サイクル」というビジネスモデル

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知的創造サイクル 研究開発成果を特許とし、メーカーにライセンスすることで技術を広めるビジネスモデル

皆様は研究開発のみを行う企業をご存じでしょうか?
当社は【研究開発】と【知的財産】で成り立つ、日本では数少ないユニークなビジネスモデルをもった研究開発専門の企業です。研究開発によって生まれた【発明】を【特許】としてかたちにし、その特許収入を次の研究開発に再投資するという【知的創造サイクル】を循環させ、1980年の設立時から止まることなく、新たな技術を生み出し続けております。このビジネスモデルは、当社の研究開発成果をより広く多くの皆様に使ってもらい、産業の発展に貢献する、【産業のタネを作る仕事】と言い換えることもできます。

◆ 結晶性酸化物半導体(CAAC-OS)
今までの研究成果として、アモルファスシリコンを用いた太陽電池、低温多結晶シリコンを用いたディスプレイの分野で産業の発展に大きく貢献を致しました。
現在は結晶性酸化物半導体技術(CAAC-OS)の研究開発を鋭意進めておりますが、この技術の特徴である極低消費電力は、現在世界的問題となっている地球温暖化の抑制に役立つ技術として期待されております。【究極の低消費電力LSIの実現】に向け、日々研究開発に励んでおります。

◆ 二次電池
【カーボンニュートラル】の実現に向けて、【二次電池】にも大きな期待が寄せられています。当社では、安全性確保を最優先に考えながら、二次電池の高エネルギー密度化、長寿命化を探求し研究開発を行っています。二次電池についての研究開発を社内で一通りできる設備環境を整え、材料・部材の開発、改良に注力し、市場のニーズに備えて更なる技術向上に取り組んでおります。

◆ 有機EL
高効率で長寿命、高精細、高色域な高性能有機ELディスプレイを実現するため、有機EL材料の設計から製造、ディスプレイパネルの試作に至るまでの全工程を社内で行っています。SEL独自の技術や素子を用いて、VR/AR向けの超小型・高精細ディスプレイの開発を進めております。

◆ 知的財産(特許取得)
日本の発展を支えてきた先代達の知恵や技術を守りながら、世界に向けて新しい技術を発信するために、【知的財産】は今後の日本の産業技術発展への大きなキーワードとなります。当社では、研究開発と知的財産の双方に密接に係れる環境を整えることで、より強く、スピーディな特許出願を可能としております。【研究開発×知的財産】双方に係れるところが当社の大きな強みとなっています。

会社データ

事業内容
◎研究開発
(対象分野)
・結晶性酸化物半導体(CAAC-OS)を用いたトランジスタや集積回路、及びそれらを統合した半導体デバイス
・バッテリーの各材料、及びそれらを統合したデバイス
・液晶・有機ELの材料や素子、及びそれらを統合したディスプレイデバイス

◎自社所有のスーパーコンピューターを用いたデバイス・材料シュミレーション

◎結晶性酸化物半導体(CAAC-OS)を用いたデバイスの量産試作

◎試作に伴う信頼性評価解析や物理・化学分析解析

◎研究開発成果の特許取得、権利活用

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結晶性酸化物半導体(CAAC-OS)を応用したノーマリオフCPU。オフリーク電流が極小であるという特徴により極低消費電力のLSIを実現。IoT、AI時代への貢献が期待される。

本社郵便番号 243-0036
本社所在地 神奈川県厚木市長谷398番地
本社電話番号 046-248-1131
設立 1980年7月
資本金 43億4,800万円(資本準備金含む)
従業員 712名(2023年4月1日現在)
売上高 会社既定の為、非公開
事業所 本社:神奈川県厚木市
栃木事業所:栃木県栃木市
平均年齢 39歳(2023年4月1日現在)
沿革
  • 1980年、1982年
    • 1980年
      資本金2000万円にて東京都世田谷区に設立

      1982年
      ステンレス基板を用いたNIP型アモルファス太陽電池にて光電変換効率8.01%/AM1(100mW/cm2)を達成
  • 1984年
    • 1984年
      レーザスクライブ法による太陽電池の開発に成功
      100cm2の大面積のガラス基板を用いたPIN型アモルファス太陽電池の作製に関し、1バッチ当たりの平均光電変換効率にして8.67%、最高9.41%を達成
  • 1985年、1986年
    • 1985年
      資本金を5000万円に増資

      ガラス基板を用いたPIN型アモルファス太陽電池にて、平均光電変換効率9.90%(100cm2)達成

      神奈川県厚木市に本社・研究所を移転

      1986年
      ダイヤモンド成膜装置を開発、販売開始
  • 1987年、1989年
    • 1987年
      第1回豪大陸縦断ワールド・ソーラー・チャレンジに参加

      1989年
      通産省のプロジェクトである(株)ジーティーシーに資本参加
  • 1990年
    • 資本金を4億8000万円に増資

      第2回豪大陸縦断ワールド・ソーラー・チャレンジに参加

      超伝導米国特許件数が第3位となる
  • 1991年、1993年
    • 1991年
      光電変換効率12.65%(1.05cm2)達成
      線状レーザー結晶化システム(LS-6)完成

      1993年
      薄膜集積回路試作用設備投資を行う

      フレキシブル型太陽電池をTDK(株)より商品化
  • 1995年、1998年
    • 1995年
      アクティブ型有機EL(エレクトロルミネッセンス)をTDK(株)より発表

      1998年
      連続粒界結晶シリコン(CGS)技術をシャープ(株)とともに発表、システム・オン・パネルへの道を開く
  • 2000年、2001年
    • 2000年
      CEATEC JAPAN2000でアクティブ型有機ELを発表

      2001年
      有機EL用TFT基板の生産・販売のための合弁会社、エルディス(株)(資本金100億円)を東北パイオニア(株)、シャープ(株)とともに設立
  • 2002年
    • ガラス基板上にCPUを形成する技術をシャープ(株)とともに発表

      シャープ(株)にてCGシリコンの量産開始
  • 2003年
    • 資本金を43億4800万円に増資

      フラットパネルディスプレイ製造技術展でエルディス(株)、東北パイオニア(株)との共同ブースにてデュアルエミッション有機ELディスプレイを展示

      密度188ppi(26万色)を達成した4.3インチVGA有機ELパネルを開発、発表
  • 2004年
    • CPUをプラスチック基板上に形成し、駆動に成功
      画素密度の423ppi(開口率75%)を達成した1.5インチQXGA有機ELパネルを開発、発表
  • 2005年、2006年
    • 2005年
      曲がる無線回路を開発、駆動に成功

      IEDM(国際電子デバイス会議)にてフレキシブル基板上・ガラス基板上にRFCPUを形成することに成功したことを発表

      2006年
      100%出資子会社 アドバンスト フィルム ディバイス インク(株)を設立
  • 2007年
    • ISSCC(国際固体素子回路会議)にて、フレキシブル基板上・ガラス基板上のCPUで世界初UHF帯域(915MHz)の通信信号の動作に成功したことを発表

      CEATEC JAPAN2007で超薄型フレキシブルRFIDタグをTDK(株)と共同展示
  • 2008年、2009年
    • 2008年
      Cartes & IdentificationでフレキシブルRFIDをアドバンスト フィルム ディバイス インク(株)と共同展示

      2009年
      SID2009で酸化物半導体(OS)TFTに関して発表

      AM-FPD’09で酸化物半導体(OS)TFTに関して発表、Best Paper Award受賞
  • 2011年
    • 3rd International Conference on Semiconductor Technology for Ultra Large Scale Integrated Circuits and Thin Film Transistorsにおいて、酸化物半導体(OS)TFTに関して発表、Best Poster Award受賞
  • 2012年
    • 酸化物半導体のc軸配向結晶(CAAC:C-Axis Aligned Crystal)をシャープ(株)と共同開発、発表

      原理的に劣化しない不揮発性メモリを内蔵したCPUを発表

      シャープ(株)よりCAAC-OSを用いたスマートフォン販売開始
  • 2013年
    • SID2013 The Display Industry Awards Display of the Year部門 金賞(シャープ(株)と共同受賞)

      SSDM2013にて、CAAC-OSを組み込んだCPUに関する論文がPaper Award受賞

      FPD International 2013 アワード 優秀賞受賞

      第27回 中日産業技術賞 経済産業大臣賞(シャープ(株)と共同受賞)
  • 2014年
    • SID2014にて、CAAC-OS FET採用の有機ELディスプレイに関して発表、Distinguished Paper Award受賞

      Display Innovation 2014に出展、「超高精細と超薄型フレシブルの有機ELディスプレイ」でDisplay Innovation アワード大賞受賞
  • 2015年
    • NHKの8Kプロモーションに協力、13.3型8K OLEDディスプレイをIBC Content Everywhere MENA 2015等で展示

      山崎社長が2015 SID Special Recognition Award受賞

      SID2015にて、「フレキシブルOLEDディスプレイの製造装置」、「OS-FETを用いた新規画素回路」を発表、Distinguished Paper Award受賞
  • 2016年
    • CAAC-IGZOの発見とその商品化により、SELとシャープ(株)がACerS Corporate Technical Achievement Award共同受賞

      酸化物半導体技術等への貢献により、山崎社長がACerS Medal for Leadership in the Advancement of Ceramic Technology受賞
  • 2017年
    • 山崎社長他が編者となった「結晶性酸化物半導体CAAC-IGZO」に関する書籍3冊がJohn Wiley & Sons社より刊行

      AI WORLD CONFERENCE & EXPOに出展、「これからのAIの抱える課題:消費電力」という題で基調講演を実施
  • 2018年
    • SID2018にて、「 BT.2020色域対応低消費電力OLEDディスプレイ用高効率 Deep青蛍光ドーパント」について発表し、Distinguished Paper Award受賞

      山崎社長が米国セラミック協会(ACerS)よりW. David Kingery Award受賞
  • 2019年~2020年
    • SID2019にて、「c軸配向結晶性酸化物半導体FETを用いた5291 ppi OLEDディスプレイ」、「有機イメージセンサ―搭載OLEDディスプレイ」について発表し、Distinguished Paper Award受賞
      共同開発CAAC-IGZO技術を用いたスマートフォンにより、SELとシャープ(株)がR&D 100 Awards共同受賞
  • 2020年~2021年
    • IEDM2020にて、超高精細AR/VR OLEDシステムディスプレイ等を展示
      IEEE EDTM2021にて、Silvaco, Inc.とCAAC-IGZO FETのシミュレーション用モデル(SPICEモデル)を共同開発したことを発表
      http://www.sel.co.jp/news/news/2021_04_pressrelease.html
  • 2025年
    • 2025年
      科学技術分野の文部科学大臣表彰 科学技術賞(開発部門)を受賞

      SID Display Week 2024にて、「高輝度、高信頼性タンデム型OLEDディスプレイ」について発表し、Distinguished Paper Awardを受賞

働き方データ

  • 平均勤続勤務年数
    平均勤続勤務年数
    • 16
    2023年度
  • 月平均所定外労働時間(前年度実績)
    月平均所定外労働時間(前年度実績)
    • 15時間
    2023年度
  • 平均有給休暇取得日数(前年度実績)
    平均有給休暇取得日数(前年度実績)
    • 15
    2023年度
  • 前年度の育児休業対象者数・取得者数(男女別)
    2023年度 前年度の育児休業対象者数・取得者数(男女別)(男性) 前年度の育児休業対象者数・取得者数(男女別)(女性) 前年度の育児休業対象者数・取得者数(男女別)(合計)
    対象者 7 2 9
    取得者 6 2 8
  • 前年度の育児休業取得率(男女別)
    2023年度

    男性

    85.7%

    女性

    100%
  • 役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合
    役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合
    • 16.4%
      (55名中9名)
    • 2023年度

社内制度

研修制度 制度あり
新入社員研修、フォロー研修、年度別研修、チューター制度等
自己啓発支援制度 制度なし
メンター制度 制度あり
キャリアコンサルティング制度 制度なし
社内検定制度 制度なし

採用実績

採用実績(学校)

<大学院>
愛知工業大学、会津大学、青山学院大学、秋田大学、茨城大学、大分大学、大阪大学、大阪公立大学、大阪府立大学、岡山大学、学習院大学、鹿児島大学、金沢大学、関西大学、関西学院大学、九州大学、九州工業大学、京都大学、京都工芸繊維大学、熊本大学、群馬大学、慶應義塾大学、工学院大学、神戸大学、国際基督教大学、埼玉大学、滋賀県立大学、静岡大学、島根大学、上智大学、信州大学、千葉大学、千葉工業大学、中央大学、筑波大学、津田塾大学、電気通信大学、東京大学、東京外国語大学、東京工科大学、東京工業大学、東京電機大学、東京農工大学、東京理科大学、東北大学、豊田工業大学、長岡技術科学大学、長崎大学、名古屋大学、名古屋工業大学、一橋大学、広島大学、法政大学、北陸先端科学技術大学院大学、北海道大学、三重大学、明治大学、明治薬科大学、山形大学、山口大学、横浜国立大学、横浜市立大学、立教大学、早稲田大学
<大学>
愛知工業大学、会津大学、青山学院大学、秋田大学、茨城大学、大分大学、大阪大学、大阪公立大学、大阪府立大学、岡山大学、学習院大学、鹿児島大学、神奈川大学、金沢大学、関西大学、関西外国語大学、関西学院大学、神田外語大学、北九州市立大学、北里大学、九州大学、九州工業大学、京都大学、京都外国語大学、京都工芸繊維大学、京都府立大学、近畿大学、熊本大学、群馬大学、慶應義塾大学、工学院大学、神戸大学、神戸市外国語大学、国際基督教大学、埼玉大学、滋賀県立大学、静岡大学、島根大学、上智大学、信州大学、千葉大学、千葉工業大学、中央大学、筑波大学、津田塾大学、電気通信大学、東京大学、東京外国語大学、東京工科大学、東京工業大学、東京電機大学、東京都立大学、東京農業大学、東京農工大学、東京理科大学、同志社大学、東北大学、豊田工業大学、豊橋技術科学大学、長岡技術科学大学、長崎大学、名古屋大学、名古屋外国語大学、名古屋工業大学、日本大学、一橋大学、広島大学、法政大学、北海道大学、三重大学、明治大学、明治薬科大学、山形大学、山口大学、横浜国立大学、横浜市立大学、立教大学、早稲田大学
<短大・高専・専門学校>
秋田工業高等専門学校、旭川工業高等専門学校、有明工業高等専門学校、石川工業高等専門学校、一関工業高等専門学校、茨城工業高等専門学校、宇部工業高等専門学校、大分工業高等専門学校、大阪公立大学工業高等専門学校、大島商船高等専門学校、小山工業高等専門学校、香川高等専門学校、鹿児島工業高等専門学校、木更津工業高等専門学校、釧路工業高等専門学校、久留米工業高等専門学校、群馬工業高等専門学校、高知工業高等専門学校、神戸市立工業高等専門学校、佐世保工業高等専門学校、サレジオ工業高等専門学校、情報科学専門学校、仙台高等専門学校、鶴岡工業高等専門学校、東京工業高等専門学校、東京都立産業技術高等専門学校、鳥羽商船高等専門学校、苫小牧工業高等専門学校、富山高等専門学校、長岡工業高等専門学校、中日本航空専門学校、長野工業高等専門学校、奈良工業高等専門学校、新居浜工業高等専門学校、日本航空大学校、日本航空大学校北海道、沼津工業高等専門学校、福井工業高等専門学校、福島工業高等専門学校、舞鶴工業高等専門学校、弓削商船高等専門学校、米子工業高等専門学校、和歌山工業高等専門学校

採用実績(人数)          2023年  2024年  2025年(予定)
----------------------------------------------------------------------
大卒(理系)    8名    20名   12名
大卒(文系)    4名    4名    5名
高専・専門     5名    9名    6名
高卒        ー     1名    ー
  • 過去3年間の新卒採用者数(男女別)
    過去3年間の新卒採用者数(男性) 過去3年間の新卒採用者数(女性) 過去3年間の新卒採用者数(合計)
    2025年 16 7 23
    2024年 26 8 34
    2023年 10 6 16
  • 過去3年間の新卒採用者数・
    離職者数・定着率
    採用者 離職者 定着率
    2025年 23 0 100%
    2024年 34 0 100%
    2023年 16 0 100%

会社概要に記載されている内容はマイナビ2026に掲載されている内容を一部抜粋しているものであり、2027年卒向けの採用情報ではありません。企業研究や業界研究にお役立てください。

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