予約リストに追加した企業へのエントリーを行いました。
以下のボタンから、予約リストを確認してください。
予約リストへ
エントリー受付を開始しました。
トップページへ
検討リストに登録した企業の中から、気になる企業にエントリーしよう!
0社を選択中
エントリー受付開始!!
会員の人はログインしてください。
最終更新日:2026/4/1
予約リストからも削除されますがよろしいですか?
半導体製造工程内の超精密研磨(CMP技術)に用いる研磨パッドを、どこよりも早く開発・製造しました。
半導体の性能向上はトランジスタ集積度の向上が必要。そのために当社の「超精密研磨技術」が必要不可欠!
CMP用研磨パッド:1位、CMP用研磨スラリー:3位。圧倒的な製品力で高シェア率を獲得しています!
CMP[Chemical Mechanical Polishing(化学的機械研磨)]の工程が、半導体デバイス製造に導入され始めた1980年当初から、現在に至るまで、研磨パッドのリーディングカンパニーとして、最先端技術の発展に貢献。そして、世界トップシェアを誇る超精密平面用の研磨パッドとともに、研磨スラリー・ワーク保持材・コンディショナーなども取り揃え、研磨用消耗資材におけるトータルソリューションを提供しながら、時代に合わせて進化を遂げることで、これからも社会に貢献していきます。
最先端半導体の回路線幅は2nm。細かい回路を正確に書くためには、ウエハー上に"いかに平面を創造できるか"です。最先端研磨による平面創造は半導体進化の原点です。
男性
女性