ナルックス(株)

これはサブ波長格子構造を用いた世界初の『2次元プレート型偏光ビームスプリッター』です。市販品のキューブ型偏光ビームビームスプリッターに置き換わるナノメートル構造体で光エネルギー伝達の大幅な高効率化とコンパクト化を創製しました。市販のキューブ型スプリッターが2個の直角プリズムを接合して構成されるのに対し、この2次元ブレート型偏光ビームスプリッターは、光の波長より短い周期が2次元に配置されています。この回折格子の構造は光にとって特定の有効屈折率で表される薄膜構造を通過しているように認識されます。この有効屈折率は入射光の偏光方向によって異なり（光の波長よりも極めて小さい構造体を光が通過する際、構造体は散乱等を生じさせる近蔽物として捉えられ、結果として遮蔽物を通過する際にエネルギー損失が生じ、その影響が有効屈折率として現れると考えられています）この状況下では設計された偏光方向を持つ入射光は同じ有効屈折率を持つ薄膜層を通過できなくなります。これは格子の反対側に光が移動できない状態に相当し、結果として入射したエネルギーの発散先として反射光が生じることになります。これらの計算を行った最新の光学素子です。

これは産学官共同開発です。従来の回折格子の凹凸パターン色とは異なるパターンを持つ回折格子です。通常はクシの様な凹凸形状ですが、これは斜めのパターンを持った光学回折格子です。加工技術が大変難しく、電子ビームのエネルギー量と照射時間とをエリア内（※格子の凹凸ピッチ/1～2ミクロン幅）において何段階にもバリアブルな強弱の微調整をした照射技術が求められます（※フォトリツグラフィー技術をご参照下さい）。この格子の開発により、プラス側の回折光だけを強調できるようになりました。アメリカの主要な展示会＜フォトニクス・ウエスト＞でも発表し、2005年に金型への転写が可能になりました。

この光学回折格子の凹凸バターンは階段状になった傾斜面で、しかもその傾斜を構成するステップの高さの組み合わせが凹凸グループによって違うというものです。例えば高さ6ミクロン、幅80ミクロンの三角形の斜面に幅5ミクロンのステップが6つあるわけですが、このステップーつ一つの高さの組み合わせが各凹凸によって違うわけです。これもやはり加工が大変難しく、困難を極める工具製作とりニアモーター駆動のナノメートル分解能を有するナノ加工機（※オングストロームよりも正確な精度で作動します）を用いたダイヤモンドターニングという3次元ナノメートル精度加工法で切削します。これはDVD・CD兼用機に内蔵され、 DVD用とCD用の波長の違う2種類のレーザ光を、一つの光学素子で同じポイントに集光させるということができます。世界トップクラスのシェアを有しています。

大阪大学、大阪府立大学と共同で開発した、業界初の画期的な超微細加工技術です。半導体製造で用いられているフォトリソグラフィー(※原盤に描かれた回路パターンを露光機でシリコンウエハー上に焼き付けて転写させる技術)をブラスチック射出成形用金型に応用、さらに発展させたものです。まず金型になる特殊金属の表面全体にレジスト(感光液)を塗布し、その上にマスク(※薄ガラスの上に微細な特定間隔でクロム膜を施したもの)を重ねます。そしてその上からマスクアライナーという露光機で密着露光。するとクロム膜下のレジストは残り、クロム膜を施されていない部分下のレジストは感光しなくなってしまいます。つまりマスクと逆パターンのレジストが金属材料の上に残っている状態です。そしてその状態の上からＲＩＢＥエッチング装置で電子をビーム照射、するとレジストの残っていない部分の金属がイオンミリングされてなくなり、最後にレジストを除去すると材料金属の表面がマスクのパターン通りの凹凸になり、これが金型になるわけです。そしてその金型に樹脂を流し込み、金型通りの回折格子が完成します。

この技術の開発により光の回折具合を決める回折格子の凹凸パターンの加工を従来精度の約１０倍という超微細なナノメートルレベルで実現出来るようになったのです。